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脉冲激光沉积(PLD)

脉冲激光沉积(PLD)

利用激光对靶材表面烧蚀,并将烧蚀物质沉积在衬底上形成薄膜

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脉冲激光沉积(PLD)

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。通常的PLD系统主要由真空腔和脉冲激光器等设备组成,将激光通过合适的透镜聚焦到真空腔内的靶材上,靶材材料不同,选用的激光波长不同,常用波长有266nm、355nm、248nm等等,有些材料也会用到532nm 和1064nm激光。某客户采用北京镭宝光电技术有限公司开发的智能化Nimma-HG-Pro脉冲固体激光器自主研发的三光束脉冲激光共沉积系统,用于大尺寸超导薄膜的制备。超导体被誉为电子无阻碍运动的“高速公路”,如何让超导材料变得比头发丝的百分之一还要细、还要薄呢?在高能激光束下,3000℃的高温能够瞬间改变材料形态,最终沉积形成手掌大小的薄膜,用他制作的超导芯片速度更快,能耗更小。在未来,7G,8G以及下一代更高的通讯技术通过它都可以实现。

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